合成技術

半世紀以上にわたる製造実績の中で種々の合成技術を身につけ、駆使してきました。中でも臭素、塩化チオニール、オキシ塩化燐などを用いたハロゲン化反応、塩化水素、ポリ燐酸、濃硫酸などを用いた強酸性下での反応など、表に示す原料などを扱った反応を多数経験しております。

最近では開発段階から海外のメーカーとの技術交流を行い、よりグローバルな視点に立った効率的な開発と生産対応ができるように心がけております。

使用可能原料

溶媒	アルコール類、芳香族系炭化水素、ケトン類、酢酸エステル類、ハロゲン系炭化水素（塩化メチレン）、THF、DMF、DMSO等
酸性試薬	臭素、塩化水素、濃塩酸、メタンスルホン酸、酢酸、無水酢酸、硫酸、塩化チオニル、オキシ塩化リン、塩化アルミニウム、塩化錫、ポリ燐酸、クロルトリアルキルシラン、各種酸クロライド等
塩基性試薬	金属水素化物、金属水酸化物、金属炭酸塩、アルキルアミン類、金属アルコラート等
その他	硫酸ジメチル

技術

反応	臭素化、塩素化（塩化チオニル、オキシ塩化リン）、ヨード 化、フリーデルクラフト反応、加水分解（二トリル、アミド、エステル）、環化反応、エステル化、アミノ化、アルキル化、酸化反応、還元反応、オキシム化反応
操作	反応、分液、晶出、濃縮、減圧蒸留、遠心分離、光学分割、原薬の精製（再結晶等）・篩過・粉砕（粒度調整）・包装